[뉴시안=박성호 기자] 삼성전자가 2030년까지 메모리 반도체뿐 아니라 시스템 반도체에서도 글로벌 1위를 달성하겠다는 '반도체 비전 2030' 계획을 발표했다. 계획 달성을 위해 시스템 반도체 분야 연구개발 및 생산시설 확충에 133조원을 투자하고 전문인력 1만5000명을 채용한다는 것이 삼성측 계획이다.

24일 삼성전자는 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 2030년까지 총 133조원을 투자한다고 밝혔다. 73조원에 달하는 R&D 투자금액은 국내 시스템 반도체 연구개발 인력 양성에 기여할 것으로 보인다. 생산시설 확충에도 60조원이 투자돼 국내 설비·소재 업체를 포함한 시스템 반도체 생태계 발전에도 긍정적인 영향이 예상된다.

삼성전자는 향후 화성캠퍼스 신규 EUV라인을 활용해 생산량을 증대하고, 국내 신규 라인 투자도 지속 추진할 계획이다.

기술경쟁력 강화를 위해서 시스템 반도체 R&D 및 제조 전문인력도 1만 5000명을 채용할 계획이다.

삼성전자의 이 같은 계획이 실행되면 2030년까지 연평균 11조원의 R&D 및 시설투자가 집행되고, 생산량이 증가함에 따라 42만명의 간접 고용유발 효과가 발생할 것으로 예상된다고 밝혔다.

삼성전자 관계자는 "과감하고 선제적인 투자와 국내 중소업체와의 상생협력을 통해 한국 시스템 반도체 산업 발전에 앞장설 계획"이라고 말했다.